技術(shù)編號(hào):3446039
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種碳化硅納米線的制備方法,尤其是可大量制備立方相碳化硅納米線的制備方法,該方法關(guān)鍵在于利用無機(jī)硅源和碳源,用較簡(jiǎn)單經(jīng)濟(jì)的工藝,批量制備立方相碳化硅納米線。這些納米線的直徑在100 nm以下,長度為幾十微米。在紫外光激發(fā)下,這些納米線有較強(qiáng)藍(lán)光發(fā)射。背景技術(shù)碳化硅是第三代半導(dǎo)體材料的典型代表,立方相碳化硅(3C_SiC)納米線具有一系列優(yōu)于碳化硅體材料或碳化硅體材料不具備的特殊性能。如碳化硅納米線的熱、化學(xué)穩(wěn) 定性優(yōu)良,可用于極端環(huán)境中;楊氏模量...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。