技術(shù)編號(hào)：3443812
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及還原爐，具體為一種基于節(jié)能涂層的還原爐。 背景技術(shù)我國多晶硅領(lǐng)域的還原爐是電耗非常高的設(shè)備，目前的節(jié)能方法大多集中在使用新型進(jìn)口設(shè)備上，這會(huì)造成多晶硅企業(yè)設(shè)備改造成本大大增加、長效節(jié)能難以穩(wěn)定的隱患。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問題在于提供一種基于節(jié)能涂層的還原爐，以解決上述背景技術(shù)中的缺點(diǎn)。本實(shí)用新型所解決的技術(shù)問題采用以下技術(shù)方案來實(shí)現(xiàn)一種基于節(jié)能涂層的還原爐，包括爐體，爐體通常采用316L鋼，爐膛壁的316L鋼會(huì)粘附硅粉及氧化，其...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。