技術編號：3440027
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種。 背景技術目前，四氟化硅主要用在兩個方面，一方面作為生產(chǎn)多晶硅再到晶圓的材料(MEMC工藝)。另外一方面用于半導體行業(yè)中層間絕緣膜(FSG膜)，作為Low-k材料的一種。主 要被用于130納米和90納米生產(chǎn)線的一部分，但不用于最新的微細工序。四氟化硅用作以 上工藝中純度要求非常高，關于其制備方法，已知的有如下方法1、硅與氟反應的制造方法；Si+2F2 — SiF4 (1)2、二氧硅與氟化氫反應的制造方法；Si02+4HF — SiF4+2H...
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