技術(shù)編號：3438956
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及。 背景技術(shù)四氯化硅(SiCl4)、三氯甲硅烷(SiHCl3)、二氯硅烷(SiH2Cl2)等氯硅烷一直作為半導(dǎo)體用多晶硅、太陽能電池用甲硅烷、液晶等的制造原料等來使用。該氯硅烷可通過例如將被稱為“金屬硅”的冶金級的低純度硅用HCl等進(jìn)行氯化來制備。在如此制得的氯硅烷中，不可避免地會含有來自金屬硅的雜質(zhì)金屬元素等。由此， 將得到的氯硅烷通過蒸餾提純，將不可避免的雜質(zhì)盡可能除去而制成高純度氯硅烷之后， 作為半導(dǎo)體用多晶硅、甲硅烷等的原料來使用。然而，...
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