技術(shù)編號：3438002
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種高純氧制取裝置，尤其適用于高氮裝置或不帶氬系統(tǒng) 的空分裝置制取高純氧。 背景技術(shù)隨著新興微電子和光電產(chǎn)業(yè)的飛速發(fā)展，芯片工藝的改進(jìn)，需要大量高純 氮?dú)夂托〔糠指呒冄?，而采用常?guī)方法進(jìn)行高純氧制取， 一般可從帶氬空分系 統(tǒng)中提取，但對于小型客戶來說，專門購買這樣的設(shè)備，不僅成本高，而且裝 置復(fù)雜，可靠性也降低，能耗也較高。若選擇不帶氬系統(tǒng)的空分設(shè)備制取氧，則需在壓力精餾塔外再設(shè)置一個(gè)脫除液空中co2、烴等重組分的塔，然后再進(jìn)入高純氧塔精餾獲...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。