技術(shù)編號(hào):3435601
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶(hù)請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種從包括全氟曱烷和/或三氟化氮的混合物中分離全 氟曱烷和三氟化氮中至少 一 種的方法。通過(guò)使混合物接觸至少 一 種離子 液體進(jìn)4亍該方法。在優(yōu)選實(shí)施方案中,通過(guò)吸收或通過(guò)萃取蒸餾進(jìn)4亍該 方法,其中使用至少 一種離子液體分別作為吸收劑或夾帶劑。背景技術(shù)為了制造半導(dǎo)體器件,在等離子蝕刻硅型材料的制造方法中使用各 種氣態(tài)含氟化合物。四氟曱烷(CF4或FC-14)的主要用途是在半導(dǎo)體 器件制造過(guò)程中用于等離子蝕刻。等離子蝕刻劑與集成電路晶片的表面 互...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專(zhuān)利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專(zhuān)利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專(zhuān)利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。