技術(shù)編號：3428629
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種拋光漿料，特別是涉及一種用于存儲器硬盤的磁盤基片拋光漿料，屬于計算機(jī)存儲器硬盤制造。背景技術(shù)近年來，隨著存儲器硬盤容量及存儲密度的快速上升，要求磁頭去讀更小、更弱的信號，因而磁頭與磁盤磁介質(zhì)之間的距離需要進(jìn)一步減小以提高輸出信號的強(qiáng)度。目前，產(chǎn)品化地計算機(jī)磁頭的飛行高度已降低到10nm左右，，預(yù)計下一代將降低到7-8nm，并且已有人在進(jìn)行磁頭與磁盤間準(zhǔn)接觸乃至直接接觸讀寫的研究。隨著磁頭與磁盤間運(yùn)行如此的接近，對磁盤表面質(zhì)量的要求也越來越高。...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。