技術(shù)編號：3427922
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及一種真空腔體送氣防沖擊方法，尤其設(shè)計離子源真空腔體送入工藝氣 體時的真空沖擊防護方法，屬于半導(dǎo)體器件制造領(lǐng)域。背景技術(shù)離子注入機工作時需要向離子源腔體送入工藝氣體，一般工藝氣體在3種以上， 工藝氣體使用SDS低壓氣瓶或者工廠統(tǒng)一送氣管供氣，工藝氣體由支路送氣閥門控制，具 體送入的氣體流量由對應(yīng)的質(zhì)量流量計控制，由于質(zhì)量流量計不具備截止能力，所以新選 擇的氣瓶支路壓力可能達到20psi，在開啟離子源送氣隔離閥時會對真空腔體產(chǎn)生很大的 沖擊，甚至可能...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。