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具有提高的壽命和濺射均勻度的濺射靶材的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3425040

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本發(fā)明實(shí)施例有關(guān)于一種用于濺射工藝腔室中的濺射靶材。 背景技術(shù)在集成電路與顯示器的制造中,會(huì)利用濺射腔室來(lái)濺射沉積材料至基板 上。通常濺射腔室包含圍繞著面對(duì)基板支撐件的濺射靶材的封圍件、被導(dǎo)入工藝氣體的工藝區(qū)域、用來(lái)激發(fā)工藝氣體的氣體激發(fā)器(gasenergizer),以及用來(lái) 排放氣體且控制腔室內(nèi)部工藝氣體壓力的排氣口。由激發(fā)氣體所形成的能量化 離子會(huì)轟擊濺射靶材,而將靶材上的材料濺擊出來(lái)并且沉積在基板上而形成薄 膜。濺射腔室還可具有磁場(chǎng)產(chǎn)生器,其可塑造...
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