技術(shù)編號：3424584
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。 本發(fā)明涉及用于襯底處理的處理系統(tǒng)，更具體地涉及一種具有氣體分配系統(tǒng)的處理系統(tǒng)，該氣體分配系統(tǒng)被構(gòu)造為有效地將處理劑傳輸?shù)揭r底上以及將處理劑分配到襯底上。 背景技術(shù) 通常，在材料處理、表面準(zhǔn)備以及清潔襯底和襯底上的各個(gè)薄膜的過程中，包括遠(yuǎn)程等離子體處理的等離子體處理被使用在半導(dǎo)體器件制作中。其中，這些處理使得能夠整合在器件制作中的步驟，增強(qiáng)器件金屬化的效果并優(yōu)化處理裝置的產(chǎn)量。在電子結(jié)構(gòu)金屬化之前，可以使用例如氫(H2)等離子體或者由氫和其他氣體添加物...
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