技術(shù)編號：3424471
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型涉及一種熱蒸鍍薄膜沉積設備，尤指可在較佳效率利用下提高薄膜沉積質(zhì)量及降低成本的設備。背景技術(shù)熱蒸鍍是實驗室及工業(yè)界常用的真空鍍膜技術(shù)，蒸發(fā)源方式主要有熱蒸發(fā)、離子濺鍍、電漿法等程序，將原本可能為固體或液體的金屬元素轉(zhuǎn)換成氣體分子狀態(tài)，在中高度真空的條件下，分子的平均自由路徑大于真空室的垂直距離，因此分子是以垂直方向打上基板，這種鍍膜的優(yōu)點是薄膜沉積形式是由蒸鍍參數(shù)所控制，對于分析方面會有較小的誤差，且在中度以上的真空狀態(tài)下，表面的雜質(zhì)污染程度較小...
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