技術編號:3422871
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及半導體制造裝置的反應爐,特別是涉及大面積的III-V族化合物半導體制造用的水平反應爐。現(xiàn)有技術滿足計算機、通信、多媒體等未來信息領域所必須的高速化、大容量化、廣域化、個人化、智能化、圖像化的化合物半導體元件,大部分是通過取向生長法制造的?;衔锇雽w可以用作顯示器用的發(fā)光二極管(LED)、光通信、CD/VD(激光唱片/錄像盤)用的LD(激光唱片)、受光元件、高速計算機用元件、衛(wèi)星通訊用元件等,可以推測今后可以用于移動通訊、高密度ODD(光學數(shù)字顯...
注意:該技術已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權人授權前,僅供技術研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術人員進行技術研發(fā)參考以及查看自身技術是否侵權,增加技術思路,做技術知識儲備,不適合論文引用。