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納米膠體射流拋光裝置的制作方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3419624

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本發(fā)明涉及一種射流拋光裝置,屬于超光滑表面拋光及光學(xué)加工。背景技術(shù)納米膠體射流拋光是一種可以實(shí)現(xiàn)原子級(jí)材料的去除的拋光方法,主要 通過(guò)給工件表面施加能量,使表面微凸起部位的原子獲得足夠的能量而從表 面逃逸或脫落,從而實(shí)現(xiàn)原子級(jí)材料的去除。由于表面凸起部分的原子受束 縛較少,去除這類(lèi)原子需要的能量也比去除本體相原子要小。因此,在加工 過(guò)程中若能控制作用到表面原子的能量,使該能量大于表面原子的結(jié)合能, 并小于本體相原子的結(jié)合能,便可以達(dá)到去除表面原子又不造成本...
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