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鈦膜的成膜方法和鈦膜的成膜裝置的制作方法技術資料下載

技術編號:3419205

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本發(fā)明涉及從表面露出有硅部分和絕緣膜的半導體晶片等的表面 上形成鈦膜的成膜方法和成膜裝置。背景技術一般地,為了制造半導體集成電路,對半導體晶片反復實施成膜、 蝕刻、氧擴散、退火等各種熱處理,作為進行這種處理的裝置的一個 例子,例如使用在專利文獻1等中公開的等離子體處理裝置。而且, 與半導體集成電路的進一步高集成化和高微細化的要求相對應,在埋 入半導體元件的絕緣膜、為了實現多層化的電路結構之間的絕緣的層 間絕緣膜等上形成的孔,例如接觸孔、通路孔的直徑也越來越...
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