技術(shù)編號(hào)：3418872
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種有利于通過濺射法形成Ag系薄膜的Ag系濺射靶、 及采用上述Ag系濺射靶得到的Ag系薄膜，具體涉及一種可形成面內(nèi)均 勻性非常優(yōu)良的Ag系薄膜的Ag系濺射靶。背景技術(shù)由純Ag或Ag合金等形成的Ag系薄膜，因反射率或透射率高、消光 系數(shù)低等而光學(xué)特性優(yōu)良，因?qū)崧矢叨鵁崽匦詢?yōu)良，因電阻率低而電特 性優(yōu)良，并且還具有優(yōu)良的表面平滑性。因此，Ag系薄膜，例如，廣泛 應(yīng)用于光信息記錄介質(zhì)(光盤)的反射膜、半透射反射膜、熱擴(kuò)散膜；平 板顯示器的反射膜、反射...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。