技術編號：3414196
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種制備Ni-ai鐵氧體薄膜的方法，特別是一種可得到具有更佳的軟磁和微波性能的尖晶石型Ni-ai鐵氧體薄膜的方法。背景技術近年來，隨著通訊、計算機以及高密度磁記錄材料的迅速發(fā)展，對磁性材料的性能要求越來越高。尤其是隨著信息處理頻率的不斷提高(例如手機、無線LAN系統(tǒng)和藍牙器件等常用的工作頻率已經(jīng)提高到了 1-5GHZ)，涉及信息存儲和轉(zhuǎn)換(例如電感、變壓器和電磁屏蔽系統(tǒng)等)的微磁器件迫切要求工作在GHz范圍內(nèi)的高性能磁性材料。尖晶石型 Ni-Si...
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