技術(shù)編號：3412016
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本實用新型是用于真空蒸鍍的掩模和樣品支架的結(jié)構(gòu)設計。薄膜與大塊材料相比，具有很多特有的性能，正是由于這種特殊的性能，使得薄膜在微電子、光電子、機械、光學、能源等工業(yè)方面和作為傳感器、交換器、裝飾膜、高分子聚合膜的應用越來越廣泛。因此薄膜的制備技術(shù)顯得尤為重要，在很多情況下，薄膜都是在真空條件下進行制備的，制備方法主要有蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜、離子鍍、化學氣相沉積等方法。為了滿足不同的需要，薄膜需要制備成不同的形狀。因此，就用到了掩模技術(shù)。掩模就是一塊和需要制備...
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