技術(shù)編號(hào)：3410630
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及構(gòu)成材料容易回收的。 背景技術(shù)作為成膜方法的一種的濺射法是使具有高能量的粒子碰撞由金屬等組成的濺射靶(以下，稱為靶)的表面(被濺射面)，并使從靶放出的原子堆積在基體材料上的成膜方法。在濺射中，為了在基體材料的表面均勻成膜，需要使用具有一定的被濺射面積的靶。 已使用過的供濺射的靶可以作為金屬材料再利用。尤其是近年來，隨著平板顯示器(Flat Panel Display, FPD)等基體材料(成膜對象)的大面積化、成膜材料的高價(jià)化等，已使用過的靶材的...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。