技術(shù)編號(hào)：3410490
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及可以形成熱穩(wěn)定的鎳硅化物(NiSi)膜、并且加工為靶時(shí)的塑性加工性良好、特別對(duì)柵極材料(薄膜)的制造有用的鎳合金濺射靶及由該靶形成的鎳硅化物膜。背景技術(shù)近年來，作為柵極材料，通過自對(duì)準(zhǔn)硅化物工藝(寸 彡寸4 K α -fe ^ )得到的 NiSi膜的使用引起關(guān)注。鎳所具有的特征在于，能夠以比鈷低的自對(duì)準(zhǔn)硅化物工藝的硅消耗量來形成硅化物膜。另外，NiSi與鈷硅化物膜同樣具有難以產(chǎn)生由布線的細(xì)微化所引起的細(xì)線電阻上升的特征?；谶@樣的情況，考慮使用鎳...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。