技術(shù)編號(hào)：3408052
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及一種襯底支撐基座，以及一種應(yīng)用該襯底支撐基座的化學(xué)氣相沉 積設(shè)備，特別涉及一種用于制造薄膜太陽能電池的襯底支撐基座以及應(yīng)用該襯底支撐基座 的低壓化學(xué)氣相沉積設(shè)備。背景技術(shù)薄膜太陽能電池在弱光條件下仍可發(fā)電，其生產(chǎn)過程能耗低，具備大幅度降低原 材料和制造成本的潛力。因此，目前市場對(duì)薄膜太陽能電池的需求正逐漸增長，而制造薄膜 太陽能電池的技術(shù)更成為近年來的研究熱點(diǎn)?；瘜W(xué)氣相沉積設(shè)備(CVD)是制造薄膜太陽能電池的一種重要設(shè)備。請(qǐng)參閱圖1，為 現(xiàn)有...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。