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蒸發(fā)液體形成薄膜的蒸發(fā)器及方法技術(shù)資料下載

技術(shù)編號(hào):3404948

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本發(fā)明大體涉及蒸發(fā)前體氣體形成薄膜的蒸發(fā)器以及方法。 背景技術(shù)制造或生產(chǎn)半導(dǎo)體器件非常復(fù)雜,常常需要,例如,仔細(xì)同 步和精確計(jì)量地將多達(dá)十二種氣體輸送到加工室中。在制造工藝 中使用不同的配方,并且半導(dǎo)體器件需要很多離散的處理步驟, 例如清潔、拋光、氧化、掩模、刻蝕、摻雜和金屬化。所用的步 驟及其順序以及所涉及的材料都影響特定器件的制造。隨著器件尺寸持續(xù)減小到90 nm以下,半導(dǎo)體發(fā)展方向指出, 很多應(yīng)用需要原子層沉積或ALD工藝,例如沉積用于銅互連的 阻擋...
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