技術編號：3401293
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及一種用于沉積工藝的遮蓋框，特別是涉及可以避免將被沉積在基材上的薄膜自基材剝離、減少電弧的產(chǎn)生、以及在基材上造成缺口的遮蓋框。背景技術在平面顯示器的制造工藝中由于需要在玻璃基板上制作晶體管元件，因此在工藝中需要鍍上不同的材質(zhì)，諸如SiO2、SiNx、a-Si與n+a-Si等薄膜。目前多采用等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)(PECVD，PlasmaEnhanced Chemical Vapor Deposition)來生成。PECVD乃是于真空系統(tǒng)中...
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