技術編號：3400263
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明屬于電子機械，尤其涉及一種多功能真空連續(xù)鍍膜裝置。背景技術 現(xiàn)有的電子薄膜制備技術一般采用磁控濺射、電子束蒸發(fā)及熱蒸發(fā)鍍膜等方法，在以往高真空鍍膜中，多采取單一鍍膜裝置或多室的多功能鍍膜裝置。由于在鍍膜過程中需要真空的工藝環(huán)境，故均配有泵抽系統(tǒng)及相關的氣路控制及檢測系統(tǒng)；對磁控濺射靶、電子槍及熱蒸發(fā)等配備相應的電源控制開關；多數(shù)鍍膜裝置配有加熱系統(tǒng)；亦有一些設備實行對整臺設備的計算機控制。對于一些需要多種方式鍍多層膜的產(chǎn)品現(xiàn)多采用多種鍍膜裝置分別鍍或...
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