技術(shù)編號(hào)：3398268
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及如半導(dǎo)體元件或液晶顯示器(liquid crystal display；以下簡稱LCD)等微電子裝置的蝕刻系統(tǒng)及其蝕刻方法，特別是涉及一種根據(jù)微電子裝置的累積處理數(shù)目而采用不同蝕刻時(shí)間的蝕刻系統(tǒng)及蝕刻方法。如半導(dǎo)體元件及液晶顯示器等微電子裝置，集積有許多微細(xì)圖案，而這種圖案是通過多個(gè)制造工序而形成。其中有一種蝕刻工序，它包括利用液體蝕刻劑的濕式蝕刻法，及利用等離子體(plasma)的干式蝕刻法。下面，以LCD為例對(duì)過去使用的濕式蝕刻法做說明。在制...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。