技術(shù)編號：3396807
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細信息。本發(fā)明涉及到一種利用兩個具有不同頻率的高頻電源生成等離子體的等離子體處理方法。本發(fā)明還涉及到一種通過利用一預(yù)定的指令序列來控制電源作用過程而自動控制起始放電的方法。本發(fā)明可有效應(yīng)用于光電部件的基于卷裝進出系統(tǒng)的批量生產(chǎn)。一般都知道，諸如化學氣相淀積(CVD)、蝕刻或者拋光之類的等離子體處理是通過向一真空室施加超高頻波或者甚高頻波(VHF)，同時用射頻波(RF)對一基體或該真空室中的空間施加一射頻(RF)偏壓而生成等離子體來實現(xiàn)的。作為這樣的等離子體處理，有...
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