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薄膜元件的自動研磨方法和利用這方法的研磨裝置的制作方法技術資料下載

技術編號:3396742

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本發(fā)明涉及用來研磨包括薄膜元件的工件的自動研磨方法。更準確地說,涉及用于在探測薄膜元件的高度的同時連續(xù)研磨工件的自動研磨方法,并且涉及利用這種方法的研磨裝置。例如,在形成磁頭薄膜后,在磁頭制造過程中研磨磁頭薄膜。在磁頭制造過程中,用研磨使磁頭的磁阻膜高度和磁頭薄膜的間隙有某一恒定的值。對于磁阻層的高度和間隙,要求有亞微米數(shù)量級的精度。因此,需要以高精度來研磨工件或磁薄膜。圖22A和22B是復合型磁頭的說明性的示意圖。如圖22A所示,復合型磁頭包括在基片81...
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