技術(shù)編號(hào)：3395650
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于處理底物的設(shè)備。由EP-A-0251825已知一種設(shè)備，用于通過化學(xué)氣相沉積(ChemicalVapour Deposition＝CVD)在底物上沉積外延層。這種已知設(shè)備包括多個(gè)垂直設(shè)置，亦即平行于重力(地心引力，萬有引力)方向設(shè)置的基座，它們各裝有多個(gè)底物，并可繞其縱軸線旋轉(zhuǎn)?；刂@一根設(shè)在中央的同樣為垂直延伸的進(jìn)氣管的一條圓周線排列。通過進(jìn)氣管中的孔流入的用于在底物上沉積外延層的過程氣體，沿基本上水平方向，亦即垂直于重力的方向流到...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。