技術(shù)編號：3390447
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種有關(guān)表面處理的方法和設(shè)備，尤其是一種在表面上產(chǎn)生薄膜的方法和設(shè)備。在表面上，例如在半導(dǎo)體基片的表面上制造薄膜這項(xiàng)技術(shù)，現(xiàn)在仍然是重要的，有待研究和開發(fā)的課題。由于這項(xiàng)技術(shù)普遍使用在包括半導(dǎo)體在內(nèi)的眾多產(chǎn)品的制造上，所以是一項(xiàng)很重要的技術(shù)。薄膜的材料可以是金屬、氧化物、硫?qū)倩铩⒘鬃寤?，超?dǎo)體等各種材料中的任一種。大多數(shù)的研究和開發(fā)都致力于尋求一種制造盡可能均勻厚度薄膜的方法和設(shè)備上。為了改善薄膜產(chǎn)品的特性，尤其需要使膜厚具有均勻性，這對于提...
注意：該技術(shù)已申請專利，請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。