技術(shù)編號(hào)：3390301
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明提出的大電流多弧斑受控真空電弧蒸發(fā)源屬于薄膜沉積設(shè)備。它是真空電弧離子鍍膜機(jī)中的核心部件。這種受控真空電弧蒸發(fā)源應(yīng)用于離子鍍膜技術(shù)，即可在各種材料上鍍上一層金屬氮化物，金屬碳化物、金屬氧化物和金屬碳氮化物硬質(zhì)薄膜，或多元合金薄膜，以提高材料表面的耐磨、耐腐蝕、耐高溫氧化等性能;還可用以鍍表面裝飾膜或其它功能性的薄膜。真空電弧離子鍍膜是當(dāng)今一種先進(jìn)的離子鍍膜技術(shù)。這種技術(shù)是依靠在真空鍍膜室中所產(chǎn)生的真空電弧弧斑的局部高溫，使作為靶極的陰極材料瞬時(shí)蒸發(fā)和...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。