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等離子體加速器法離子鍍膜裝置的制作方法技術資料下載

技術編號:3389645

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本實用新型是一種物理汽相沉積技術。屬于物理汽相沉積技術的有傳統(tǒng)真空鍍膜,陰極濺射和離子鍍膜。目前,現(xiàn)有技術中的美國專利US-3793179采用了金屬蒸發(fā)法離子鍍膜技術,由于此項技術中只有陰極底座,陽極殼體,陰極底座中未加永久磁鐵,因此沒有利用霍耳加速效果,待金屬蒸發(fā)后蒸汽中所含微滴多,產品光潔度差,質量降低,對裝飾用途影響很大,產品轟擊清洗效果差,膜層附著力較低,金屬鍍膜壽命短,大大降低了產品質量。此技術中的引弧絲為常閉態(tài),因此可靠性差,且鍍膜材料的表面初...
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