技術(shù)編號：3386559
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實用新型涉及玻璃制造，特別是，涉及一種磁控濺射用靶材。背景技術(shù)通常的平面式靶材的表面呈一平面，在進行磁控濺射時，處于環(huán)形刻蝕槽位置的靶材優(yōu)先刻蝕完，而其它部位刻蝕不到，所以造成靶材的利用率只有30%左右，更換靶材的頻率就大，成本也就上升。實用新型內(nèi)容本實用新型的目的是提供一種利用率高的磁控濺射用靶材。為解決上述技術(shù)問題，本實用新型采用如下技術(shù)方案一種磁控濺射用靶材，包括板狀的靶材本體,所述的靶材本體上對應(yīng)于環(huán)形刻蝕槽的部分呈厚度大于其他部分厚度的凸棱狀。...
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