技術(shù)編號(hào)：3384228
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本實(shí)用新型涉及濺射。背景技術(shù)專利號(hào)為86204865.6、發(fā)明名稱為《多用對(duì)向靶濺射儀》和專利號(hào)為90224243.1、發(fā)明名稱為《溫度可控型雙對(duì)靶新型薄膜濺射儀》的兩項(xiàng)專利分別公開了單對(duì)靶和雙對(duì)靶的薄膜濺射儀，雖然它具有比其它濺射方法獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn)，但隨著薄膜技術(shù)發(fā)展的要求，尤其是在制備超薄多層人工格，在線制備保護(hù)膜和過度層以及制備多元合金多層連續(xù)介質(zhì)膜、顆粒膜以及有多層膜組成的磁傳感器件等，其功能尚存不足。實(shí)用新型內(nèi)容本實(shí)用新型是為了克服現(xiàn)有技術(shù)中的不足之...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。