技術(shù)編號(hào):3377239
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于在平坦表面上沉積均勻涂層的設(shè)備和方法。更加具體而言,本發(fā)明涉及一種使用多重等離子體源在平坦表面上沉積均勻涂層的方法和設(shè)備。再具體而言,本發(fā)明涉及一種用于通過(guò)經(jīng)公共注入系統(tǒng)向通過(guò)多重膨脹熱等離子體源產(chǎn)生的多個(gè)等離子體中注入反應(yīng)氣體而在平坦表面上沉積均勻涂層的方法和設(shè)備。背景技術(shù) 等離子體源能夠以高沉積速度在基板上沉積各種涂層,諸如透明耐磨涂層、透明UV過(guò)濾涂層、以及多層涂層外殼。在這樣的沉積過(guò)程中,反應(yīng)氣體與等離子體反應(yīng)從而形成沉積在基板上...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。