技術編號：3377162
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及一種噴嘴設備，用于化學氣相沉積(CVD)反應器中，特別是用于硅沉積反應器中。背景技術在半導體技術和光伏產業(yè)中，已知在沉積反應器中例如根據西門子法(Siemens-method)制得高純度的娃棒，該沉積反應器又叫做化學氣相沉積反應器或簡稱為CVD反應器(CVD-reactors)。首先，將細硅棒接納在反應器中，在沉積過程中硅沉積于其上。細硅棒被接納在夾緊和接觸裝置中，夾緊和接觸裝置一方面將細硅棒保持在預定朝向，另一方面提供對細硅棒電氣接觸。在它們各...
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