技術(shù)編號(hào)：3376710
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及光學(xué)領(lǐng)域，尤指。背景技術(shù)獲得均勻膜層厚度是鍍膜基片的光學(xué)特性具有一致性、重復(fù)性和高質(zhì)量的重要保證。而影響膜層厚度均勻性的主要因素是蒸發(fā)源發(fā)射特性和蒸發(fā)源與被鍍工件的相對(duì)位置。蒸發(fā)源蒸發(fā)的材料分子呈輻射形射向被鍍工件，使得工件與工件之間以及工件內(nèi)各處獲得蒸發(fā)分子概率不同，從而形成厚度分布不均勻的薄膜。一般的解決辦法是采用旋轉(zhuǎn)卡具和在真空室內(nèi)增設(shè)膜層厚度調(diào)節(jié)板。目前使用的膜厚監(jiān)測系統(tǒng)，如中國專利200710053938. X，監(jiān)控片固定在旋轉(zhuǎn)卡具的中...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。