技術(shù)編號(hào):3376618
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于在淀積設(shè)備中在襯底上形成圖案的掩模和使用該掩模來(lái)制造顯示裝置的方法,并且尤其涉及一種用于形成有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)顯示器的鈍化層的應(yīng)用于等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積(PECVD)的掩模。背景技術(shù)通常,氣相淀積主要分類成物理氣相淀積(PVD)和化學(xué)氣相淀積(CVD)。根據(jù)所淀積材料從氣態(tài)變成固態(tài)時(shí)進(jìn)行的處理,PVD與CVD之間存在差異。具體地,明顯的差異在于PVD要求真空環(huán)境,而CVD甚至在數(shù)十至數(shù)百托的環(huán)境或者標(biāo)準(zhǔn)壓力環(huán)境下也充分地進(jìn)行。...
注意:該技術(shù)已申請(qǐng)專利,請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備,不適合論文引用。