技術(shù)編號(hào)：3375334
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于真空加工基片特別是具有Im2或更大尺寸的大面積基片的遵循所謂內(nèi)聯(lián)概念的裝置。在優(yōu)選的實(shí)施例中，介紹了一種用于化學(xué)氣相沉積(CVD)氧化鋅 (ZnO)層的系統(tǒng)，氧化鋅層用于薄膜太陽能電池，例如在太陽能電池特別是在硅基太陽能電池例如薄膜太陽能電池領(lǐng)域中用于前接觸層和后接觸層。而且該系統(tǒng)可以被用于所有使用了化學(xué)氣相沉積的大面積涂覆應(yīng)用。系統(tǒng)、裝置、加工設(shè)備、設(shè)備是在本公開中用于本發(fā)明至少一個(gè)實(shí)施例的可互換使用的術(shù)語?！凹庸ぁ痹诒景l(fā)明的情況下包括...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。