技術(shù)編號:3374925
提示:您尚未登錄,請點 登 陸 后下載,如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ,登陸完成后,請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及表面涂覆領(lǐng)域,尤其涉及等離子體增強的表面涂覆,其中單體物質(zhì)被使得聚合并沉積在表面上從而形成一層均勻的憎油和憎水材料。背景技術(shù)在前述涂覆過程中,單體物質(zhì)被引入惰性載氣并以受控量饋入低壓等離子體室。 因而需要其中受控量的單體可蒸發(fā)到惰性氣體流內(nèi)的均勻蒸發(fā)過程。同樣需要確保惰性載氣中的單體濃度高且均勻的過程和設(shè)備,以使涂覆過程有效率。發(fā)明內(nèi)容根據(jù)本發(fā)明,提供了在低壓力下等離子體涂覆憎水和憎油聚合層的方法,其中該方法包括步驟-提供具有表面的襯底;-將包括...
注意:該技術(shù)已申請專利,請尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出,在未取得專利權(quán)人授權(quán)前,僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán),增加技術(shù)思路,做技術(shù)知識儲備,不適合論文引用。