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技術(shù)編號(hào)：3374546

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本發(fā)明涉及CMP制造工藝和CMP建模，具體而言，本發(fā)明涉及基于淺溝道隔離技術(shù)的化學(xué)機(jī)械研磨終點(diǎn)檢測(cè)方法及系統(tǒng)。背景技術(shù)目前，隨著集成電路晶圓尺寸的不斷擴(kuò)大，芯片特征尺寸的不斷縮小，45nm節(jié)點(diǎn)以下包括32nm、22nm以及16nm等工藝節(jié)點(diǎn)進(jìn)程為可制造性設(shè)計(jì)(DFM，Design for manufacturability)的研究和應(yīng)用提出了新的要求和挑戰(zhàn)?；瘜W(xué)機(jī)械研磨(CMP，Chemical Mechanical Polishing)作為DFM工藝解決...
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