技術(shù)編號(hào)：3373821
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種冰凍固結(jié)磨料拋光墊，尤其是一種拋光效率高，均勻性好的拋光墊，具體地說是一咱。背景技術(shù)眾所周知，傳統(tǒng)的CMP (化學(xué)機(jī)械拋光法)系統(tǒng)是由一個(gè)旋轉(zhuǎn)的工件夾持裝置、承載拋光墊的工作臺(tái)和拋光液(漿料)供給系統(tǒng)三大部分組成。拋光時(shí)，旋轉(zhuǎn)的工件以一定的壓力壓在隨工作臺(tái)一起旋轉(zhuǎn)的拋光墊上，而由亞微米或納米磨料和化學(xué)液組成的拋光液在工件與拋光墊之間流動(dòng)，并在工件表面產(chǎn)生化學(xué)反應(yīng)，工件表面形成的化學(xué)反應(yīng)物由磨粒的機(jī)械摩擦作用去除。由于選用比工件軟或者與工件硬度...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。