技術編號：3372410
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本實用新型涉及半導體工藝設備，尤其涉及一種晶體硅太陽能電池生產(chǎn)中PECVD 工藝氣體的輸送法蘭。背景技術PECVD是一種半導體工藝設備，主要用于晶體硅太陽能電池制造中電池片的減反 射膜生長工藝。在晶體硅太陽能電池生產(chǎn)中，電池片減反射膜的鍍膜效果直接關系到電池 片的最終轉換效率與電性能參數(shù)。PECVD鍍膜工藝要求其反應管內(nèi)氣流穩(wěn)定，且工藝氣體分布均勻。但是現(xiàn)有的 PECVD鍍膜設備，一般用“Y”型氣嘴將兩種工藝氣體在爐口法蘭處匯集起來，直接往PECVD 的石...
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