技術編號：3367790
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及，尤其涉及難熔貴金屬靶材的制備方法，屬于硬盤垂直磁記錄材料領域。背景技術目前，釕金屬濺射靶材成為垂直磁記錄多層膜結構中重要的原材料之一，通常作為中間層應用于磁記錄介質中，主要起到減小上下層之間晶格失配應力、增加熱穩(wěn)定性與降低噪聲等作用。釕金屬靶材通常采用傳統(tǒng)熱壓(HP)和熱等靜壓(HIP)的方法來制備。對于傳統(tǒng)熱壓方法，由于采用熱輻射對粉末加熱，存在制備周期長、晶粒均勻性不好控制等缺點。對于熱等靜壓方法，需要對粉末進行冷壓成型并將靶坯裝入包套，利...
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