技術(shù)編號：3367652
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明屬于光機(jī)電一體化的真空鍍膜，其主要應(yīng)用于真空等離子表面處理行業(yè)，具體涉及濺射靶表面含氧量的控制系統(tǒng)、用于濺射靶表面含氧量控制的等離子探針、鍍ITO膜的PET板制造方法。背景技術(shù)采用濺射技術(shù)鍍ITO膜就是在真空室內(nèi)將基片置于基片架上，真空室抽成高真空，然后充入氬氣和氧氣，采用真空濺射技術(shù)，將氧化銦錫靶材濺出，在PET基片上形成膜。 膜層含氧量的不同會對ITO膜的性能產(chǎn)生重大影響，如方塊電阻、透光率。目前，國內(nèi)乃至韓國的ITO鍍膜設(shè)備都沒有自動控制的充氧...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。