技術(shù)編號(hào)：3365877
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及 一種基板載置臺(tái)的溫度控制方法及溫度控制系統(tǒng)，該基板載置臺(tái)用于 載置被實(shí)施等離子處理的基板。背景技術(shù)用于對作為基板的晶圓實(shí)施等離子處理的基板處理裝置包括腔室，其作為用 于收容該晶圓的減壓室；簇射頭，其用于向該腔室內(nèi)導(dǎo)入處理氣體；以及基座(載置臺(tái))， 該基座在腔室內(nèi)與簇射頭相對地配置，其用于載置晶圓并對腔室內(nèi)施加高頻電力。被導(dǎo) 入到腔室內(nèi)的處理氣體被高頻電力激發(fā)而成為等離子體，該等離子體中的陽離子、自由基 (radical)被用于晶圓的等離子處理。...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。