技術(shù)編號(hào)：3365765
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。，涉及一種電子、光伏領(lǐng)域用鉬濺射靶材的制備 方法。背景技術(shù)在電子和光伏領(lǐng)域，鉬濺射靶材主要用于平板顯示器和薄膜太陽能電池的電極和 配線材料。其對(duì)鉬濺射靶材的要求是高純度(> 99. 95wt% )、高密度(相對(duì)密度> 98% )、 細(xì)小均勻的晶粒組織以及一定的結(jié)晶取向，而且對(duì)C、0、K等氣體元素及堿金屬元素要求含 量越低越好。為了提高鉬濺射靶材的純度，國內(nèi)外一些企業(yè)采用電子束熔煉的方法。這種方法 成本高，操作復(fù)雜，熔煉后的鉬坯金屬晶粒粗大，后續(xù)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。