技術(shù)編號(hào)：3364932
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種用于在小物件上沉積薄膜的裝置。 背景技術(shù)物理氣相沉積(PVD)是通過熱蒸發(fā)或輝光放電、弧光放電等物理過程，產(chǎn)生金屬 粒子并與反應(yīng)氣體反應(yīng)形成化合物沉積在工件表面。PVD鍍膜技術(shù)主要分為三類，它們分別 是真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍和真空離子鍍膜。本發(fā)明采用真空蒸發(fā)鍍膜和真空濺射鍍膜， 在一個(gè)真空設(shè)備中對(duì)容器內(nèi)待鍍膜小物件在旋轉(zhuǎn)的過程中進(jìn)行均勻全面鍍膜，使鍍膜小物 件獲得高密度、高結(jié)合力的涂層。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種用于在小物件上沉積薄膜的...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。