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技術編號：3363141

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本發(fā)明涉及一種化學氣相沉積(Chemical Vapor Deposition ；CVD)機臺，且特別是涉及一種有機金屬化學氣相沉積(Metal-Organic CVD ；M0CVD)機臺。背景技術在發(fā)光二極管(LED)的制作過程中，由于發(fā)光二極管中的半導體材料層的品質與發(fā)光二極管的發(fā)光品質息息相關，因此各半導體材料層的外延程序是相當重要的步驟。而發(fā)光二極管的外延程序中，一般均需要利用晶片承載盤(Wafer Susceptor)來裝載晶片。一般，在目前的晶...
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