技術(shù)編號：3361942
提示：您尚未登錄，請點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點(diǎn) 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種適用于磁控濺射鍍膜的樣品臺，更特別地說，是指一種新型滾筒式樣品臺，以及應(yīng)用該滾筒式樣品臺進(jìn)行粉體顆粒的磁控濺射鍍膜方法。背景技術(shù)粉體顆粒由于粒徑小、比表面積大而具有塊體材料所不具有的各種物理和化學(xué)性 質(zhì)，因此，目前國內(nèi)外對多種系列的粉體顆粒的各種特性及應(yīng)用的研究已經(jīng)取得了較大進(jìn) 展，但有關(guān)在粉體顆粒表面鍍膜的方法及其應(yīng)用方面仍在做積極的探索，需要解決的困難 之一是粉體顆粒的均勻分散問題。在粉體顆粒表面鍍膜的方法很多，如真空蒸發(fā)、磁控濺射、化學(xué)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識儲備，不適合論文引用。