技術(shù)編號(hào)：3360196
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。磁體材料的高度，也無(wú)法將靶上的磁場(chǎng)強(qiáng)度增強(qiáng)到能調(diào)整膜厚分布那樣的程度。另外，在專利文獻(xiàn)2的技術(shù)中，在使用強(qiáng)磁體等作為靶材的情況下，為了磁力線容 易在靶的內(nèi)部通過(guò)，因此磁軌為切掉(shortcut)角部而形成的形狀。因此，只在中心磁鐵 的兩端部形成T字部并不能調(diào)整磁軌的長(zhǎng)度。為了增加靶的兩端部的磁軌的長(zhǎng)度，如圖16 所示，必須增加T字部的寬度方向的長(zhǎng)度A，但該長(zhǎng)度A卻受到磁鐵寬度B的限制。發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的在于提供一種不管靶的磁性特性是強(qiáng)是弱、且不增加靶的...
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