技術(shù)編號(hào):3359914
提示:您尚未登錄,請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載,如果您還沒(méi)有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ,登陸完成后,請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及一種氣化源及成膜裝置。 背景技術(shù)作為光學(xué)制品的光學(xué)薄膜具備多個(gè)折射率不同的層。通過(guò)將各層疊放于基板上, 來(lái)得到防反射性、濾光性及反射性等各種不同的光學(xué)特性。舉例而言,利用鉭、鈦、鈮、鋯等 金屬的氧化物作為高折射率材料,利用二氧化硅及氟化鎂作為低折射率材料。光學(xué)薄膜的制造過(guò)程包括使用所謂濺射法,所述濺射法是指使用包含低折射率材 料、高折射率材料或其他材料的電介質(zhì)形成的多個(gè)標(biāo)靶,使從各標(biāo)靶放出之濺射粒子依序 堆積于基板上。這種濺射法包括在靶面附近注入...
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